Китайская компания Shanghai Yuliansheng Technology (上海宇量昇) планирует отгрузить пять immersion DUV-литографических систем китайским производителям микросхем до конца 2026 года. По данным отраслевых источников, речь идёт о сканерах с числовой апертурой 1,35, способных работать с нормами от 28 нм и выше. Это первый случай серийной поставки отечественных immersion-литографов на действующие IC-фабрики КНР.
Для мирового рынка полупроводникового оборудования новость означает, что китайские разработчики литографии перешли от единичных прототипов к серийному производству. Ранее ASML оставалась единственным поставщиком immersion DUV-сканеров для китайских фабрик, однако экспортные ограничения стимулировали ускоренную локализацию. Успешная эксплуатация пяти машин на реальных линиях станет ключевым тестом для производства микросхем на отечественном оборудовании.
С точки зрения B2B-заказчиков, рост парка литографического оборудования в Китае влияет на глобальный баланс мощностей и доступность кремниевых пластин с определёнными топологическими нормами. Инженерным командам стоит учитывать возможное расширение предложения зрелых узлов (28–90 нм) при планировании долгосрочных контрактов на электронные компоненты.
Отраслевой контекст: развитие собственной литографической базы — часть стратегии КНР по снижению зависимости от импортного оборудования. Наряду с SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), Yuliansheng входит в число ключевых игроков, формирующих альтернативную цепочку поставок для полупроводниковой отрасли.
Для подбора микросхем и полупроводниковых компонентов смотрите раздел Микросхемы в каталоге ООО «Телеметрия».
