Производство микросхем остаётся самой капиталоёмкой частью электронной отрасли, и разрыв в литографии снова в центре внимания. Фрэнк Ромунд, глава полупроводникового подразделения Zeiss SMT — единственного поставщика оптики для EUV-сканеров ASML, — оценил отставание Китая от западного уровня примерно в 15 лет. По его словам, без доступа к EUV-литографии китайские производители пока не могут выйти на передовые техпроцессы.
Речь идёт о ходе технологической гонки, которая напрямую определяет доступность современных микропроцессорных схем на мировом рынке. Пока западные фабы освоили EUV для массовых узлов 5 и 3 нм, китайские предприятия развивают DUV-мультиэкспозицию и наращивают выпуск зрелых техпроцессов 28 нм и выше — именно там сейчас концентрируется глобальный дефицит мощностей.
Ромунд при этом предупредил, что экспортные ограничения — не гарантия сохранения разрыва: жёсткие санкции, по его оценке, способны лишь ускорить создание Китаем собственных EUV-литографии и цепочек поставок. Аналогичный интервал в 10–15 лет ранее называл и глава ASML Кристоф Фуке, поэтому консенсус индустрии сводится к тому, что паритет в передовых узлах — вопрос ближайшего десятилетия.
Для B2B-закупщиков сигнал практический: специализация фабов будет углубляться, поэтому по каждой позиции стоит заранее проверять, на каком техпроцессе выпускается компонент, каковы риски вторичных источников и что происходит с циклами жизни кристаллов. Это особенно важно для промышленных серий с длительным жизненным циклом изделия.
Если подбираете компоненты под новый проект, посмотрите раздел Микропроцессорные схемы в каталоге ООО «Телеметрия»: склад и поставка под заказ по процессорам, контроллерам и периферии.
